新華社武漢11月10日電（記者譚元斌）經(jīng)過(guò)3年科技攻關(guān)，我國光學(xué)薄膜精密微復制技術(shù)取得重大突破，成功打破國外技術(shù)壟斷。這是記者10日從湖北省國防科工辦和湖北航天化學(xué)技術(shù)研究所獲得的消息。
　　據介紹，光學(xué)薄膜精密微復制技術(shù)是在光學(xué)薄膜基材表面精密涂布特定配方樹(shù)脂，然后在擁有特定設計納微尺度幾何結構的雕刻輥上成型的技術(shù)。其廣泛應用于液晶平板顯示器背光模組增亮膜和擴散膜、道路交通標識微棱鏡反光膜、液晶顯示器保護用防反射膜和防窺膜、裸眼3D顯示功能膜以及家電用仿金屬拉絲高光膜等。這些產(chǎn)品附加值高，市場(chǎng)需求大，關(guān)鍵技術(shù)一直掌握在國外公司手中。
2014至2016年，湖北航天化學(xué)技術(shù)研究所承擔湖北省重大科技專(zhuān)項“光學(xué)薄膜精密微復制工藝制備關(guān)鍵技術(shù)開(kāi)發(fā)及應用”，先后開(kāi)展了結構設計、刻印樹(shù)脂配方研究和涂布工藝研究，近日已通過(guò)湖北省科技廳驗收。
　　湖北航天化學(xué)技術(shù)研究所相關(guān)負責人說(shuō)，他們設計出特殊表面涂層微結構，開(kāi)發(fā)出特殊刻印涂層樹(shù)脂配方，在光學(xué)薄膜刻印涂層背面采用防眩、防劃傷或防靜電處理，提高產(chǎn)品收益率20%以上，極大地提高了我國新材料產(chǎn)業(yè)鏈科技水平。
　　據介紹，目前，這項技術(shù)已在重要國防項目中得到應用，申報發(fā)明10件。